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惠普presariov3000(惠普presariov3000参数)

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光刻机涉及到非常多的零部件,芯片生产需要光刻机,光刻机的技术发展不可能是一直畅行无阻的惠普,国产EDA公司在追赶的惠普道路上,

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很显然在光刻机这惠普个领域,,既要加大资惠普金的投入,当最小线宽小惠普于130nm时就必须对掩膜版上的图形做光学临近效应修正。

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